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이 노드는 지정된 강도로 마스크를 특정 영역에 적용하여 생성 모델의 컨디셔닝을 수정하도록 설계되었습니다. 컨디셔닝 내에서 대상 조정이 가능하므로 생성 과정을 보다 정밀하게 제어할 수 있습니다.

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